5000亿国资助阵自主可控，光刻机概念逆势领涨，半导体设备国产替代逻辑持续强化

上周摩尔线程被曝募资大规模用于理财，而非研发，一定程度上打击了市场对部分科技公司“高预期、低现实”的情绪，导致本周一GPU、AI算力等相关板块承压。然而，半导体产业链内部出现显著分化，关键设备环节——尤其是光刻机及相关材料概念逆势走强，成为市场重点关注的自主可控方向。

具体来看，艾森股份封涨停板，南大光电涨超10%，上海新阳、晶瑞电材涨超3%，中船特气，江化微、神工股份涨超2%，寒武纪等多股跟涨。热门半导体设备ETF（561980）对以上个股及相关自主可控领域均有布局，目前标的指数年内涨幅已超60%，在主流半导体指数中弹性突出。

消息面上，为了继续鼓励和支持国产芯片，媒体报道称我国正在考虑推出一项价值高达700亿美元的激励计划，以资助和支持其芯片制造产业。有业内人士指出，该方案拟拨出2000亿元人民币（约合280亿美元）至5000亿元人民币的补贴和其他融资支持资金，目前最终细节、具体金额和目标企业正在商讨中。

有分析指出，在半导体自主可控的大趋势下，不同环节的确定性与紧迫性存在差异。光刻机作为芯片制造的基石，是技术攻坚中最关键、最无可替代的“硬核”环节，其突破直接关系到整个产业链的国产替代进场。

因此，即便市场对部分科技叙事产生疑虑，但对光刻等核心设备自主化的投入信心与政策支持预期，长期来看依然坚定。

尤其是在当下高达数千亿级别的国家队资金激励预期下，半导体设备，特别是光刻、刻蚀、薄膜沉积等前沿且国产化率亟待提升的领域，其战略地位和增长确定性更为突出。行业的扩产周期与AI驱动的技术升级，为设备需求提供了穿越短期波动的弹性。

指数化投资方面，半导体设备ETF（561980）跟踪中证半导，标的指数精准覆盖了包括光刻产业链在内的上游核心环节，其持仓高度聚焦于设备、材料、设计等硬科技领域，或为把握半导体设备等国产替代领域的理想工具。在当前科技波动中，具备坚实逻辑支撑的自主可控细分配置价值愈发清晰。

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