#光刻机概念异动拉升，泰和科技20cm涨停# 光掩模(Photomask)，又称掩模、(光刻)掩膜版，光罩等,是微电子制造过程中图形转移的母版，是半导体、平板显示等行业生产制造的关键核心材料。在光掩模缺陷检测设备领域，设备国产率不足3%，国产替代尚在早期，空间巨大.目前，公司在高端智能装备领域,研发、生产和销售各类激光直写光刻机和纳米压印光刻机，其中以激光直写光刻机为主。激光直写光刻机是用于生产制造光掩模的核心设备之一，国内半导体企业所使用的激光直写光刻机主要为美国应用材料(Applied Materials)和瑞典迈康尼(Mycronic)等美欧企业所垄断，国产化率极低。公司一直致力于积极拓展激光直写光刻机在半导体掩模制造领域的量产应用