引领战略赛道 聚光科技半导体痕量杂质分析检测方案实现规模化应用

日前，聚光科技（300203）在回复投资者提问时表示，公司推出的EXPEC 7350s型ICP-MS/MS系统在半导体检测领域已成功构建覆盖高纯湿化学品、光刻胶、硅烷、晶圆体/表金属残留以及高纯石英材料等关键材料的痕量杂质分析检测整体解决方案体系，目前该技术平台已在产业链上游实现规模化应用。

作为高端分析仪器研制、产业化及创新应用领域的核心供应商，聚光科技凭借国内领先的质谱、色谱、光谱领先核心技术与产品平台，构建了覆盖智慧环境、智慧工业、智慧实验室、生命科学的多元化业务矩阵。公司可为环境、应急安全、半导体、材料、食药、生命科学等众多行业客户，提供分析仪器、试剂耗材、信息化软件、运维服务、检测服务、咨询服务的一体化创新产品组合与定制化解决方案，全方位满足客户在精准分析与高效管理上的需求。

半导体计量与检测设备是半导体制造设备领域的核心赛道之一，是保障芯片良率的关键支撑，更是该赛道中技术壁垒高、战略价值突出的关键细分领域，直接影响半导体制造的精度与效率。Global Market Insights研报指出，2024年全球半导体计量和检验市场规模约为98亿美元，到2034年将达到187亿美元，2025-2034年CAGR达6.9%。

杂质元素分析是集成电路制造工艺中不可或缺的质量控制技术，在硅基材料加工、电子级高纯化学品生产、晶圆制造工艺优化及洁净车间环境监控等关键环节中，承担着保障制造精度与产品品质的重要作用。其中，电感耦合等离子体串联质谱联用技术（ICP-MS/MS）凭借超痕量检测能力与多元素同步分析的核心优势，已成为半导体行业杂质检测的主流技术手段。

2025年上半年，聚光科技针对半导体检测领域持续发力，公司推出的EXPEC 7350s型ICP-MS/MS系统已构建起覆盖高纯湿化学品、光刻胶、硅烷、晶圆体/表金属残留及高纯石英材料的痕量杂质分析检测整体解决方案体系。该技术平台已在产业链上游实现规模化应用，成功完成西安、湖南等地核心供应商的产品导入与交付验证。

在集成电路制造端，EXPEC 7350s型ICP-MS/MS进一步突破两大核心技术场景，成功通过了晶圆制造巨头企业在高纯湿化学品金属杂质监控体系中的应用评估，并在晶圆表面金属污染检测（VPD-ICP-MS/MS）领域通过头部企业验证评估，标志公司技术已深度渗透至半导体制造的核心质控环节，为产业链质量管控提供关键支撑。

针对湿化学品分析与洁净空间AMC（空气分子污染物）微污染气体分析需求，聚光科技AMC-1000微污染气体监测系统整合先进的质谱、傅里叶红外及CRDS光腔衰荡等核心技术，可精准监测半导体工业生产空间内的主要气相分子污染物。该系统无需对气体成分进行制样，支持直接采样并自动完成全组分定量分析，同时具备多点气体探测能力，最高可实现64路气体切换，满足规模化生产场景的监测需求。

此外，公司基于电化学与NDIR技术的GDM系列特气报警仪产品推广应用取得突破，已获得芯片制造企业的高度认可。截至2025年上半年，数千台该系列特气报警仪已被芯片及面板制造企业采购入厂，成功推进特气监测领域的国产替代进程，未来市场发展潜力广阔。

聚光科技以高端分析仪器的研制、产业化及创新应用自主可控为己任，坚持自主研发、持续创新，推动国产高端科学仪器从“可用”走向“好用”、从“单点”走向“谱系”、从“替代”走向“引领”。

在践行高端分析仪器国产替代使命的同时，聚光科技同步加速“中国智造”的国际化布局。2025年10月，聚光科技宣布公司PM2.5大气颗粒物分析仪顺利通过美国环境保护署（US EPA）认证，并正式列入联邦注册公告（Federal Register，认证编号：EQPM-0325-269）。

至此，聚光科技常规空气质量监测系统（含PM2.5、PM10、O3、CO、SO2、NOX，简称AQMS系列）已实现全系列产品通过US EPA认证，公司也成为国内首家达成该全线认证的高端分析仪器制造商。

作为国际公认的空气质量监测性能权威评价体系，US EPA认证结果被全球多国环保标准采纳。此次全系列认证的通过，标志着聚光科技相关仪器在测量准确性、数据一致性及环境适应性等核心维度均达到国际先进要求，为公司进一步开拓全球市场奠定了坚实的技术基础。

在国产高端仪器打破海外垄断、实现“从替代到引领”的关键进程中，聚光科技为我国科学仪器产业的高端化、规模化升级注入了核心动能，更实现了自身发展方向与行业突破需求的深度契合，有望持续引领国产高端仪器赛道成长。

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