9月26日,据晶盛机电(300316.SZ)官方微信号消息,首条12英寸碳化硅衬底加工中试线在晶盛机电子公司浙江晶瑞SuperSiC正式通线,至此,浙江晶瑞SuperSiC真正实现了从晶体生长、加工到检测环节的全线设备自主研发,100%国产化,标志着晶盛机电在全球SiC衬底技术从并跑向领跑迈进,迈入高效智造新阶段。
SiC是第三代半导体材料的核心代表,因其耐高压、高频、高效等特性,广泛应用于新能源汽车、智能电网、5G通信等重点行业。同时,在AR设备、CoWoS先进封装中间基板等新兴应用领域,SiC也正逐步成为推动技术突破的关键材料。相较于8英寸产品,12英寸产品单片晶圆芯片产出量增加约2.5倍,能够在大规模生产中显著减少长晶、加工、抛光等环节的单位成本,是大幅降低下游应用成本的关键路径。
随着首条12英寸碳化硅衬底加工中试线正式通线,自此,晶盛机电正式形成了12英寸SiC衬底从装备到材料的完整闭环,彻底解决了关键装备“卡脖子”风险,为下游产业提供了成本与效率的新基准。
此次12英寸SiC中试线的正式通线是晶盛机电坚持“先进材料、先进装备”双引擎发展战略的重大成果,更是我国半导体高端装备制造能力的一次集中展示。
中邮证券研报认为,晶盛机电基于自主研发的碳化硅单晶生长炉以及持续迭代升级的8-12英寸长晶工艺,经过多年的技术攻关,创新晶体生长温场设计及气相原料分布工艺,攻克12英寸碳化硅晶体生长中的温场不均、晶体开裂等核心难题,实现了12英寸超大尺寸晶体生长的技术突破,成功长出12英寸导电型碳化硅晶体。同时,积极推进8英寸碳化硅衬底在全球的客户验证,送样客户范围大幅提升,产品验证进展顺利,并成功获取部分国际客户批量订单。
公司积极布局碳化硅产能,在上虞布局年产30万片碳化硅衬底项目;并基于全球碳化硅产业的良好发展前景和广阔市场,在马来西亚槟城投建8英寸碳化硅衬底产业化项目,进一步强化公司在全球市场的供应能力;同时,在银川投建年产60万片8英寸碳化硅衬底片配套晶体项目,不断强化公司在碳化硅衬底材料领域的技术和规模优势。
基于产业链核心设备的国产化突破,公司在检测、离子注入、激活、氧化、减薄、退火等工艺环节积极布局产品体系,以高标准研发目标,逐步实现碳化硅设备产业化市场突破。公司6-8英寸碳化硅外延设备实现国产替代并市占率领先。公司碳化硅设备客户包括瀚天天成、东莞天域、芯联集成、士兰微等行业头部企业。
数据显示,受益于半导体行业持续发展及国产化进程加快,公司半导体业务持续发展,截至2025年6月30日,公司未完成集成电路及化合物半导体装备合同超37亿元(含税)。
据QYResearch调研团队最新报告“中国碳化硅功率模块市场报告2025-2031”显示,预计2031年中国碳化硅功率模块市场规模将达到40.8亿美元,未来几年年复合增长率CAGR为20.0%。
晶盛机电称,未来,公司将加速推进产线的量产进程,为客户提供高质量、低成本的大尺寸碳化硅衬底,携手产业链伙伴,共同推动我国第三代半导体产业蓬勃发展。
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