泡财经获悉,5月24日,A股光刻胶概念活跃,格林达(603931.SH)涨停。
消息面上:
5月23日,日本经济产业省公布外汇法法令修正案,将先进芯片制造设备等23个品类追加列入出口管理的管制对象,上述修正案在经过2个月的公告期后,将在7月23日实行。
据悉,该计划涉及清洗、成膜、热处理、曝光、蚀刻、检查等23个种类,包括极紫外(EUV)相关产品的制造设备和三维堆叠存储元件的蚀刻设备等。就计算用逻辑半导体的性能而言,它是制造电路线宽10至14纳米或更小的尖端产品的必备设备。
中信证券指出,该措施内容与3月31日的征询公众意见稿基本一致,符合先前预期。当下从产业安全角度,建议重点关注设备、零部件、材料、高端芯片等易“卡脖子”环节,有望获得政策推动。
光刻是利用光学、化学、物理方法,将设计好的电路图转移到晶圆等表面,是光电信息产业链中核心环节。光刻胶主要应用于半导体、显示面板和PCB等领域。据国海证券,光刻胶属于技术和资本密集型行业,全球供应市场高度集中,日本JSR等五家龙头企业占据全球光刻胶市场87%的份额,同时海外龙头也已实现EUV等高端制程量产。目前,我国光刻胶生产主要集中在PCB光刻胶等中低端产品,其中PCB光刻胶占比达94%;而半导体用g/i线胶自给率约10%,KrF胶自给率不足5%,ArF胶基本依靠进口。在政策推动及半导体产业链配套需求提升背景下,国内优秀龙头公司正积极突破,彤程新材EUV胶已通过02专项验收;上海新阳(300236.SZ)、徐州博康ArF胶正处客户测试阶段,南大光电(300346.SZ)ArF胶已获部分客户认证;晶瑞电材(300655.SZ)等i/g线胶已实现量产。随着国内厂商在高端光刻胶领域的逐步突破,国产替代进程有望加速。
格林达专业从事超净高纯湿电子化学品的研发、生产和销售业务,产品主要有显影液、蚀刻液、稀释液、清洗液等。下游应用领域主要为显示面板、半导体、太阳能电池等,主要用于显影、蚀刻、清洗等电子产品制造工艺中。
显影液主要在光刻工艺中将可溶解的光刻胶溶解掉。蚀刻液主要借助化学反应除去基板表面的固体物质。稀释液主要用于除去涂光刻胶过程留在边缘的光刻胶。清洗液主要用于清洗基板表面的尘埃颗粒及有机污染物等。
2023年第一季度,格林达实现营业收入1.61亿元,同比减少33.23%。归属于上市公司股东的净利润2787.84万元,同比减少29.36%。归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润2671.85万元,同比减少26.19%。
海通证券表示,格林达新产能陆续投产,进一步完善产品结构。公司“年产7万吨新型显示材料电子化学品扩产项目”二期1.6万吨超高纯TMAH显影液项目已完成建设。四川格林达年产10万吨电子材料项目(一期)主要生产TMAH显影液、铝蚀刻液、BOE蚀刻液,项目建成后将新增年产4万吨TMAH显影液、0.5万吨铝蚀刻液和1.5万吨BOE蚀刻液的生产产能,预计2023年中期完成试生产调试。海通证券认为新增产能有望完善产品种类,提升综合配套能力,提高公司核心竞争力。
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